王建智952221E131024MY3(第1年

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行政院國家科學委員會補助專題研究計畫期中進度報告 應用機器視覺發展晶圓與晶粒表面瑕疵檢測與品質分 類系統之研究 計畫類別:■ 個別型計畫 □ 整合型計畫 計畫編號: NSC 95-2221-E-131-024-MY3 執行期間: 95 8 1 日至 96 7 31 計畫主持人:王建智 共同主持人: 計畫參與人員: 成果報告類型(依經費核定清單規定繳交):■精簡報告 □完整報告 本成果報告包括以下應繳交之附件: □赴國外出差或研習心得報告一份 □赴大陸地區出差或研習心得報告一份 ■出席國際學術會議心得報告及發表之論文各一份 □國際合作研究計畫國外研究報告書一份 處理方式:除產學合作研究計畫、提升產業技術及人才培育研究計畫、 列管計畫及下列情形者外,得立即公開查詢 □涉及專利或其他智慧財產權,□一年□二年後可公開查詢 執行單位:明志科技大學工業工程與管理系 96 5 30
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行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 應用機器視覺發展晶圓與晶粒表面瑕疵檢測與品質分類系統之研究 (1/3) Development a Wafer and Wafer Die Surface Defect Inspection and Quality Classification System Using Machine Vision(1/3) 計畫編號: NSC 95-2221-E-131-024-MY3 執行期限: 95 8 1 日至 96 7 31 主 持 人:王建智 明志科技大學工業工程與管理系 E-mail [email protected] 一、 中文摘要 本年度計畫係針對晶圓表面的瑕疵,提出一 套建立在彩色視覺系統上的檢測程序,以降 低目前業者所採用的晶圓檢測機,誤判率過 高的問題。本研究所提出的檢測程序為首先 採用 Gamma 修正演算法進行強化影像,將 晶圓影像中較暗的地方加以突顯,濾除屬於 背景的地方,然後再利用 R G B Bands 強化後的資訊,個別進行 Maximum Between Group 的二值分割,並利用本研究所提出的 二值影像邏輯運算合併所分割的資訊。最後 利用 Median Filter 去除雜訊,以凸顯瑕疵影 像的區域。在方法的驗證上,針對廠商所提 供的 232 張彩色晶圓影像樣本,其中有 132 張正常影像, 100 張瑕疵影像,檢測結果有 24 張測試樣本產生 Type I Error ,其 Type I Error 18 % ,及 7 張測試樣本產生 Type II Error ,其 Type II Error 7 % 。整體檢測正 確率由原先 50 % 提升至 87 % ,檢測時間約 0.8 秒。 關鍵詞: Gamma 修正法、二值影像邏輯運 算、瑕疵偵測 Abstract At first inspecting method of this research is to use Gamma correction method to enhance Wafer images in order to enhance the darker regions and filter out the brighter background regions. At second after using the three information of R G B bands enhanced implement Maximum Between-Group binary thresholding individually, the three enhanced
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This note was uploaded on 11/27/2009 for the course IM MA420 taught by Professor Mar,lee during the Spring '09 term at National Taiwan University.

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